В России создана суверенная установка электронно‑лучевой литографии с проектными нормами 150 нм для выпуска чипов. Разработчик — АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» (ЗНТЦ). Два опытных образца проходят комплексные испытания.

По данным CNews, сведения раскрыты в тендере на транспортировку, опубликованном в июне 2026. В документации ЗНТЦ: перевозка опытного образца в рамках ОКР «Прогресс ЭЛЛ 150»; отправление — Зеленоград, пункт назначения не указан.

Контекст: электронно‑лучевая литография применяется для изготовления фотошаблонов и НИОКР; уровень 150 нм относится к зрелым техпроцессам, востребованным в специализированной электронике.